9月5日消息,日本东北大学的科研人员最近成功开发出一种具有潜力的材料,或将为相变存储器领域带来新的突破。他们利用溅射技术,成功制备了碲化铌(NbTe4)材料,据称该材料在存储和热性能方面表现出色,或可应用于相变存储器的制造,为该领域提供更多的原材料选择,同时降低相关制造成本。

  日本研究团队成功制备新型相变存储器材料:碲化铌(NbTe4)

  相变存储器(Phase Change Memory,PCM)作为一种新型存储技术,一直受到关注。相对于传统的闪存存储器,PCM利用相变材料的固态和液态相变特性来实现数据的存储和读取,具备读写速度更快、存储密度更高、功耗更低以及尺寸更小的优势。然而,由于制造相变存储器介质的成本较高,目前该技术主要局限于企业级应用,尚未在家庭市场得到广泛应用。

  据了解,研究人员采用了溅射技术,将碲化铌(NbTe4)材料成功地制备出来。溅射技术是一种常用的材料薄膜制备技术,它能够将材料薄膜沉积到基底上,实现对膜厚和成分的精确控制。研究人员在高于272℃的温度下进行退火,使得碲化铌(NbTe4)结晶,这种材料具有超低的熔点约为447℃,因此在物理上相对稳定,适合用于制造相变存储器。

  日本研究团队成功制备新型相变存储器材料:碲化铌(NbTe4)

  经过对该材料晶体的评估,研究人员发现,与传统的相变存储器材料相比,碲化铌(NbTe4)晶体具有更高的热稳定性,并且其从结晶态到液态的相变速度约为30纳秒,显示出作为相变存储器原材料的潜力。东北大学材料科学高等研究所助理教授Shuang表示:“碲化铌(NbTe4)具备低熔点、高结晶温度和优异的相变性能,为高性能相变存储器的开发提供了新的可能性,这或许是解决相变存储器成本挑战的理想材料之一。”

  通过这项研究,科学家们为相变存储器技术的进一步发展开辟了新的途径。碲化铌(NbTe4)作为一种具备卓越性能和潜力的材料,有望在未来为存储领域带来更多的创新,推动存储器技术的不断演进。虽然相变存储器技术目前仍然处于企业级阶段,但随着研究的不断深入,相信它有望逐渐走向家庭市场,为普通消费者带来更快、更高密度的存储解决方案。